GPM-2-300光谱磨平机,双盘独立控制,磨盘无级调速
GPM-2-300光谱磨平机,双盘独立控制,磨盘无级调速

GPM-2-300光谱磨平机,双盘独立控制,磨盘无级调速

在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。

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产品介绍

在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。

产品特点:

  1. 无级调速控制
  2. 下方配有吸尘装置,可吸走磨削物
  3. 安全锁扣,1/4磨面,保护操作员

适用范围:

适用于光谱研究的试样磨平。

主要参数

型号

GMP-2-300

磨盘直径

300mm

砂纸直径

300mm

转速

无级调速100~1400r/min

或四档速300, 600, 900, 1400 r/min

转向

顺时针或逆时针

电机功率

550W

显示及操作

数码管显示,薄膜按键操作,带吸尘装置

输入电源

单相220V, 50Hz, 10A

外形尺寸

820×440×940mm

净重

122kg

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